美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列

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  • 发布日期:2020-11-20 14:20
  • 有效期至:长期有效
  • 招商区域:全国
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产品描述

 

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源, 离子束可聚焦, 平行, 散射.

离子束流: >100 mA~1500mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 

采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求.

离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装

美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列 应用领域:

伯东 KRI 射频离子源 RFICP系列离子源应用:

1. 离子辅助镀膜 IBAD( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )

2. 离子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )

3. 表面改性激活 SM (Surface modification and activation )

4. 离子溅镀IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)

5. 离子蚀刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)

美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列 技术参数:

 


 

 
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